古巴藝術展首邀美藝術家參加 |
2009-03-29 (14:38) |
古巴首都哈瓦那舉行每兩年一度的大型國際藝術展覽會,今年邀請得一批美國藝術家參加,展出他們的作品。這是自從1959年古巴爆發革命、長期與美國為敵以來,首次有美國藝術家參加這項盛會。 今屆哈瓦那國際藝術展已經是第十屆,命名為「切爾西造訪哈瓦那」。切爾西(Chelsea)是紐約一個著名藝術區的名稱。展覽會上共展出33名美國藝術家的39件作品,這些作品原本存放在28間紐約博物館和畫廊內。 這項藝術展的主辦人馬尼昂說:「這是在古巴展出的最大規模的美國藝術作品。」馬尼昂是古巴人,但5歲的時候已經逃出自己的國家,到美國定居,現時他在紐約切爾西區開了一間畫廊。 他指出,這次藝術展共花了兩年半時間籌備,希望藉著這個機會,推動美國和古巴改善關係。 今屆國際藝術展共展出40個國家和地區200多位藝術家的作品,於上周五正式揭幕,一直展出至5月17日。15位美國藝術家和畫廊東主應邀親自前往哈瓦那,出席這項盛會。
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